国家知识产权局信息数据显现，冯阿登纳真空设备（上海）有限公司请求一项名为“用于气体交流体系的装置基座、气体交流体系和办法”的专利，公开号CN 121048102 A，请求日期为2025年9月。专利摘要显现，本发明供给的用于气体交流体系的装置基座、气体交流体系和办法，触及真空体系技能领域，该装置基座包含进气端口和气体检测组。气体检测组包含：分配导管、供应支管以及出气支管。出气支管包含：出气端口、将流量操控器装置至装置基座的榜首操控器端口和第二操控器端口、将分配导管与榜首操控器端口衔接的分配操控导管、将第二操控器端口与出气端口衔接的操控输出导管。供应支管包含：将阀门装置到装置基座的榜首阀门端口和第二阀门端口、将榜首阀门端口与进气端口衔接的进气阀导管、将第二阀门端口与分配导管衔接的出气阀导管。相较于现存技能，本发明施行例可以对不同量程、不一样的品牌、不同气体组合条件下的气体质量流量操控器进行测验。

  天眼查资料显现，冯阿登纳真空设备（上海）有限公司，成立于2006年，坐落上海市，是一家以从事电信、广播电视和卫星传输服务为主的企业。企业注册资本150万美元。经过天眼查大数据分析，冯阿登纳真空设备（上海）有限公司参加招投标项目9次，此外企业还具有行政许可20个。

  声明：商场有危险，出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成，仅供参考，不构成个人出资主张。